我公司二氧化硅抛光粉经纳米工艺生产的一种高纯度颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，广泛用于多种材料纳米级的平坦化抛光，
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，光学器件、蓝宝石片等的抛光加工，金属镜面抛光。
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
技术指标：
型号 | 外观 | 粒径 | 纯度 | 应用 |
CY-SP50F | 白色粉末 | 50nm | 99% | 精细抛光 |
CY-SP100F | 白色粉末 | 100nm | 99% | 精细抛光 |
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